CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備
特征描述：
馳誠CCZK-SF磁控濺射鍍膜機(jī)，具備成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜相對于傳統(tǒng)蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，馳誠磁控濺射鍍膜可獲得更為優(yōu)秀的膜層致密性，均勻性和結(jié)合力采用全新的直流或中頻磁控濺射電源，滿足不同層次客戶需求
全新的高速低溫濺射技術(shù)，極大的擴(kuò)展了馳誠CCZK-SF磁控設(shè)備的應(yīng)用范圍，對無法受熱或耐熱力產(chǎn)品提供優(yōu)質(zhì)的濺射鍍膜解決方案采用馳誠創(chuàng)新工藝制造，精益求精，全面通過歐盟CE和ISO質(zhì)量管理體系認(rèn)證；
技術(shù)配置
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備
腔體結(jié)構(gòu)： 立式前開門，臥式前開門。
材質(zhì)用料：腔體材質(zhì)為SUS304不銹鋼或碳鋼
真空系統(tǒng)： 擴(kuò)散泵（可選分子泵）+羅茨泵+機(jī)械泵+維持泵（另有深冷泵系統(tǒng)可供選擇）
濺射靶材： 中心圓柱靶，平面靶，孿生靶等
磁控電源： 可配備直流或中頻磁控濺射電源
轉(zhuǎn)動系統(tǒng)： 變頻調(diào)速，公自轉(zhuǎn)結(jié)合，可根據(jù)客戶產(chǎn)品和要求設(shè)計
膜層結(jié)構(gòu)： 單層膜、多層膜
氣體控制： 氣體流量控制儀集成觸控操作控制
人機(jī)界面： PLC智能控制+全彩HMI觸摸屏
操作方式： 邏輯全自動方式、半自動方式、手動方式
智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人機(jī)觸控界面，實(shí)現(xiàn)全自動控制
報警及保護(hù)：異常情況進(jìn)行報警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。
其他技術(shù)參數(shù)：
極限真空： 5.0×10-4Pa
抽氣速率： 5.0*10-2≤5min
水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h；水溫≤25℃；氣壓：0.4-0.8Mpa；
備注：
一般規(guī)格：
Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，
Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm
真空室尺寸或設(shè)備配置可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做
應(yīng)用
適合鍍制高級裝飾膜，合金膜層等。全新的高速反應(yīng)低溫濺射技術(shù)，成就了其高速的薄膜生長能力和優(yōu)秀的膜層均勻度致密性，廣泛應(yīng)用于塑料餐具，手機(jī)外殼、衛(wèi)浴潔具、汽車輪轂，五金飾品及標(biāo)牌等鍍膜。亦可濺射塑料制品、陶瓷、馬賽克、樹脂、水晶玻璃制品等
樣品圖
