真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)組成
真空鍍膜機(jī)等離子體束濺射鍍膜機(jī)主要由射頻等離子體源、真空獲得系統(tǒng)、電磁線圈（發(fā)射線圈及匯聚線圈）、偏壓電源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系統(tǒng)等部分構(gòu)成。其顯著特點(diǎn)是它的等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)，其示意圖如圖1 所示。等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)是鍍膜機(jī)中的關(guān)鍵部分，其中射頻等離子體源位于真空室的側(cè)面，并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個(gè)電磁線圈。當(dāng)兩個(gè)線圈同向通過(guò)電流時(shí)，線圈合成的磁場(chǎng)將引導(dǎo)等離子體源中產(chǎn)生的電子沿磁場(chǎng)方向運(yùn)動(dòng)，從而使等離子體束被約束在磁場(chǎng)方向上。同時(shí)靶材加有負(fù)偏壓，使濺射離子在電場(chǎng)的作用下加速撞擊靶表面，產(chǎn)生濺射作用。
真空鍍膜機(jī)等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)
真空鍍膜機(jī)這種鍍膜機(jī)具有非常靈活的控制方式，例如濺射速率可以通過(guò)調(diào)節(jié)靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進(jìn)行調(diào)節(jié)。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計(jì)是實(shí)現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵，而這種參數(shù)闊范圍的可控性使得特定的應(yīng)用能夠獲得最優(yōu)化的工藝參數(shù)。此外，還可以通過(guò)控制系統(tǒng)的真空度來(lái)進(jìn)行濺射速率的調(diào)節(jié)。
真空鍍膜機(jī)中所示曲線為靶電流與偏壓曲線、恒定電流密度時(shí)濺射速率與靶偏壓的關(guān)系，其中恒定電流時(shí)射頻功率為500W。
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