離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當的方式使鍍膜材料蒸發(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，蒸發(fā)物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。
表 離子鍍的種類及其特點
種類 蒸發(fā)源 離化方法 工作環(huán)境 特點 用途
直流放電法 電阻 輝光放電dc:0.1kv～5kv 惰性氣體1pa，0.25ma/cm2 結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，分散性差！ 耐熱，潤滑等鍍件
弧光放電法 電子束、燈絲 弧光放電dc:100v 高真空1.33x10-4pa 離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，利于提高質量 切削工具、金屬裝飾等鍍件
空心陰極法 空心陰極 等離子體電子束dc:0v～200v 惰性氣體或反應氣體 離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層 裝飾、耐磨等鍍件
調頻激勵法 電阻、電子束 射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv 惰性氣體或反應氣體 離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差 光學、半導體等鍍件
電場蒸發(fā)法 電子束 二次電子dc:1kv～5kv 真空 不純氣體少，能形成較好的膜 電子元件
多陰極法 電阻、電子束 熱電子dc:0v～5kv 惰性氣體或反應氣體 低速電子離化效果好 裝飾、電子、精密機械等零件
聚焦離子束法 電阻 聚集離子束dc:0v～5kv 惰性氣體 因離子聚束，膜層結合力強 電子元件
活性反應法 電子束 二次電子dc:200v 反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等 金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層 電子、裝飾、耐磨等鍍件
關鍵詞：濺射鍍膜機 真空鍍膜機 離子鍍
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