真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。
那么，真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件有哪些？我們一起來看看吧：
1、環(huán)境溫度：10~30℃
2、相對濕度：不大于70%
3、冷卻水進水溫度：不高于25℃
4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?/span>
5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；
6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產(chǎn)品使用說明書上寫明。
7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。
此外，真空鍍膜設(shè)備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。
關(guān)鍵詞：真空鍍膜設(shè)備
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